Nasce Nexperia Newport
Nexperia ha completato la transazione per l’acquisizione di Newport Wafer Fab (NWF), che sarà ribattezzata Nexperia Newport, contribuendo agli obiettivi di crescita dell’azienda e agli investimenti per aumentare la capacità produttiva globale.
Con l’acquisizione, Nexperia ottiene il 100% della proprietà dell’impianto gallese di produzione di semiconduttori. Nexperia Newport continuerà ad avere una posizione forte nell’ecosistema gallese e nello sviluppo tecnologico e garantirà gli attuali posti di lavoro presso il sito di Newport e altri in tutta la regione.
Il sito di Newport integra le altre attività produttive europee di Nexperia a Manchester e Amburgo, che recentemente hanno visto significativi investimenti.
Achim Kempe, Chief Operations Officer di Nexperia ha commentato : “Siamo molto entusiasti di includere Newport come parte della nostra base di produzione globale. Nexperia ha piani di crescita ambiziosi e l’aggiunta di Newport supporta la crescente domanda globale di semiconduttori. La struttura di Newport ha un team operativo molto qualificato e ha un ruolo cruciale da svolgere per garantire la continuità delle operazioni. Non vediamo l’ora di costruire insieme un futuro”.
Paul James, Direttore delle operazioni presso il sito di Newport ha aggiunto: “L’acquisizione è un’ottima notizia per il personale qui a Newport e per la più ampia comunità imprenditoriale della regione poiché Nexperia sta fornendo gli investimenti e la stabilità necessari per il futuro. Non vediamo l’ora di entrare a far parte del team globale di Nexperia e siamo desiderosi di mantenere l’attuale forza lavoro. Potrebbero essere necessarie anche ulteriori risorse locali. Siamo inoltre lieti di poter continuare a contribuire all’ecosistema locale”.
Drew Nelson, presidente uscente di Newport, ha dichiarato: “Il cambio di proprietà del sito di Newport segna un passo importante per il futuro della struttura e per la regione. Siamo lieti di essere in grado di mantenere l’esperienza nello sviluppo di dispositivi in silicio di fascia alta nella fabbrica di wafer da 200 mm e allo stesso tempo di aprire opportunità per aggiungere nuove tecnologie di semiconduttori”.
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