Un accordo per i processi litografici al di sotto dei 65 nanometri

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Kla Tencor, attiva nella gestione di processo per l’industria dei semiconduttori, ha stipulato un accordo con il centro di ricerca per la nanoelettronica e le nanotecnologie Imec, basato in Belgio. L’accordo prevede un progetto congiunto per lo sviluppo di tecnologie metrologiche ottiche per la produzione di semiconduttori della prossima generazione. Le nuove metodologie ottiche CD (critical dimension) saranno utilizzate nei processi litografici per la produzione di semiconduttori con dimensioni uguali o inferiori ai 65 nm.

L’accordo stipulato promuoverà l’utilizzo della metrologia ottica CD che sarà utilizzata nei processi di produzione dell’isolamento delle tracce e dei gate, nelle nuove generazioni di semiconduttori. Saranno inoltre esplorate aree applicative radicalmente nuove, come l’utilizzo nei processi di produzione di contatti tridimensionali e degli strati del semiconduttore. In generale le nuove tecniche ottiche CD consentono misurazioni al di sotto delle dimensioni che sono il limite delle tecniche tradizionali.

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