Opzione Rf per il controllo del processo di produzione di tipo parametrico

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Keithley Instruments ha annunciato l’introduzione di una nuova opzione per effettuare misure Rf direttamente per il controllo del processo di produzione di tipo parametrico di dispositivi a semiconduttore. Questa opzione Rf di terza generazione è in grado di garantire il monitoraggio continuo, automatico e in tempo reale della qualità della misura, fornendo risultati di elevato livello qualitativo e assicurando nel contempo throughput più elevato, costi operativi ridotti e maggiore semplicità d’uso rispetto ad analoghe soluzioni presenti sul mercato. Inoltre, le funzionalità di misura della nuova opzione Rf sono le sole qualificate per il controllo parametrico di processo dai produttori di wafer da 200 e 300 mm per tutte le applicazioni che interessano la produzione di integrati logici e analogici a elevate prestazioni.

New to Keithley’s third generation Rf Option solution is the unique ability to offer continuous, automatic, real-time monitoring of measurement quality, providing the highest quality results with the highest throughput, lowest cost of operation, and easiest use of any competitive product. In addition, Keithley’s Rf Option measurement capability is the only test system qualified for parameters process control by 200 mm and 300 mm production fabs worlwide for applications involving high-performance logic and high-performance analog Ic production.

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