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- ELETTRONICA OGGI 455 - GIUGNO/LUGLIO 2016

no elettroni in uno strato di nitruro di silicio, anziché il silicio poli-

cristallino drogato, tipico delle celle a gate flottante (floating gate)

utilizzate nelle strutture NAND 2D. Queste nuove celle di memoria a

intrappolamento di carica sonomolto più stabili delle classiche cel-

le a gate flottante e permettono di ridurre gli errori nelle operazioni

di memorizzazione e di controllo.

Nuove tecnologie di connessione

Per aumentare ulteriormente la velocità è necessario utilizzare

nuove tecnologie per collegare le celle. Nei primi dispositivi “stan-

dard” NAND 3D, ciascuno strato è collegato sfruttando le tradizio-

nali tecniche del wire bonding. In collaborazione con New Energy

and Industrial Technology Development Organisation, Toshiba ha

sviluppato una metodologia che permette di inserire tra un die e

l’altro connettori che garantiscono una maggiore velocità di trasfe-

rimento oltre che una migliore efficienza energetica. Da qui è nata

la prima memoria NAND Flash a 16 strati che utilizza la tecnologia

Through Silicon Via (TSV) per collegare i die in una struttura BiCS.

Invece del wire bonding, la tecnologia TSV utilizza elettrodi verticali

e le via per collegare i diversi strati di silicio. Ciò permette l’attra-

versamento di dati ad alta velocità e riduce il consumo di potenza.

La tecnologia TSV permette di ottenere una velocità di trasmissione

ingresso/uscita maggiore di 1 Gbps, superiore a quella di qualsiasi

altra memoria NAND Flash a bassa tensione di alimentazione; ciò

permette di ridurre del 50% la potenza richiesta rispetto ai prodot-

ti che utilizzano la tecnica di wire bonding. Naturalmente, il futuro

non si ferma con il 3D. Le memorie ReRAM (Resistive Random-

Access Memory) e PCM (Phase-Change Memory) stanno iniziando

ad apparire oltre l’orizzonte della NAND 3D. Forse la memoria più

rivoluzionaria sarà la MRAM (Magneto-Resistive Random Access

Memory). Si tratta di un altro tipo di memoria non volatile che per-

mette di raggiungere velocità simili alla DRAMma, a differenza della

NAND, si distingue per un’endurance potenzialmente illimitata.

LaMRAMha il potenziale di cambiare lemodalità di accesso ai dati

da parte dei sistemi. Oggi, gli utenti utilizzano la NAND Flash come

un hard-disk drive: copiano le informazioni dalla NAND Flash alla

DRAM ed eseguono il codice direttamente dalla DRAM. Questo

processo è noto come shadowing. Con la MRAM, lo shadowing

non serve più: i dati sono già presenti in memoria quando si ac-

cende il dispositivo. LaMRAMpotrebbe in realtà combinare la den-

sità della DRAM con la velocità della SRAM e la non volatilità della

NAND, il tutto a fronte di bassissimi consumi di energia.

La rivoluzione delle memorie è alle porte

Viviamo in un momento storico: il futuro della rivoluzione delle memo-

rie a stato solido è alle porte. Il ridimensionamento dei processi litogra-

fici ha già permesso di realizzare die 2000 volte più piccoli, e le strutture

di memoria tridimensionali contribuiranno a un ulteriore ridimensio-

namento. Questi cambiamenti porteranno a un ulteriore aumento della

quantità di dati memorizzati nei dispositivi a stato solido. Questi dispo-

sitivi non solo permetteranno un accesso più rapido ai dati, ma rivolu-

zioneranno la progettazione dei dispositivi, permettendo di accelerare

significativamente la lettura e l’analisi di un maggior volume di dati.

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