EON
ews
n.
574
-
aprile
2014
4
rialza la
testa. E sorprende gli analisti
di Wall Street. Il gruppo ame-
ricanohaarchiviato il secondo
trimestre del suo anno fiscale
2014 con un fatturato da 4,11
miliardi di dollari, in crescita
del 98% rispetto allo stesso
periodo dell’esercizio prece-
dente.
Un dato molto positivo che è
stato superiore alle previsioni
del panel di analisti intervi-
stati da
che ave-
va previsto un giro d’affari da
3,99 miliardi. Bene anche la
performance in termini di pro-
fitti: l’utile netto è raddoppiato
passandodai 358milioni di un
anno da ai 731 milioni attuali.
E il margine lordo del grup-
po è migliorato di due punti
percentuali passando dal 32
al 34 per cento. Sono andati
bene i ricavi delle vendite di
prodotti Flash NAND che, nel
trimestre, sonocresciuti del 11
per centograzieprincipalmen-
te ad un aumento del 35 per
centodel volumedelle vendite
che ha compensato una dimi-
nuzione del 18 per cento dei
prezzi medi di vendita. Stabi-
li invece i ricavi da vendite di
DRAM i cui prezzi peròsi sono
mantenuti invariati. “Èunbuon
momento per lememory – ha
spiegato il presidente di Mi-
cron,MarkAdams, agli analisti
– I risultati realizzati dalla so-
cietà sono fra i migliori messi
a segno nell’ultimo decennio”.
Ma è evidente che c’è stato
un grosso cambiamento nel
mercato: Micron, che è il più
grossoproduttorestatunitense
di Dram, ha assistito a una
flessione di chip per Pc legata
a doppio filo con l’incremen-
to della domanda di tablet e
smartphone da parte dei con-
sumatori. La società con base
a Boise (Idaho USA), anco-
ra in fase di consolidamento
dopo aver acquistato l’anno
scorso il suo competitor giap-
ponese Elpida Memory inc,
ha dovuto fare i conti con il
cambiamento del mercato in
atto al quale risponde ristrut-
turandosi in quattro Business
Unit: computing & networking,
mobile, storage, e embedded.
In Italia invece la riorganizza-
zione si annunciapiùdolorosa
che altrove, visto che è stata
avviata una controversa pro-
ceduradi licenziamento collet-
tivo per 419dipendenti.
“Le multinazionali ottimizzano
al meglio i propri costi a livello
globale – spiega un banchiere
inglese – seMicron ha deciso
così è perché non conviene
più produrre in Italia e preferi-
sce andare altrove dove trova
un ambiente più favorevole.
E i risultati positivi di questa
strategia si vedono poi nei
conti della società che riesce
a realizzaremaggiori profitti a
vantaggio degli investitori”.
E del resto il mercato mostra
di apprezzare questa strate-
gia come testimonia il fatto
che il valore del titolo inBorsa
nel 2013 si è praticamente tri-
plicato.
P
robabili ritardi nel lancio del-
la nuova generazione di mac-
chine litografiche per semi-
conduttori, cioè quelle basate
sui raggi ultravioletti estremi
(EUV), potrebbero mettere a
rischio l’indiscusso dominio di
nel business
dei macchinari per la produ-
zione dei wafer di silicio. Un
dominio che dura circa da 10
anni e che consente
al gruppo olandese
di vendere i propri
prodotti a un prezzo
superiore a quello
delle altre società
del settore, ricavan-
do così margini di
profittosuperiori alla
media. La maggiore
redditività si tradu-
ce, per le azioni quotate sui
mercati finanziari internazio-
nali, in valutazioni borsistiche
migliori rispetto a quelle dei
concorrenti anche sulla base
del presupposto che l’attuale
management guidato da Mar-
tin Van Den Brink, forte della
credibilità acquisita nel corso
del tempo, riescaamantenere
l’attuale supremazia tecnolo-
gica anche nei prossimi anni.
A giudizio di alcuni esperti,
ASML Holding potrebbe però
soffrire– inun futuronon trop-
po lontano – della maggiore
concorrenza portata avan-
ti dalla giapponese
e
dalla realtà che nascerà dalla
fusione tra la statunitense
e
se ci saranno ulteriori ritardi
nell’introduzione di efficienti
macchine EUV. Ritardi dovuti
a una serie di problematiche
tecniche di non facile soluzio-
ne nel breve periodo. Ricor-
diamo che l’introduzione di
questa tipologia di macchinari
è fondamentale per l’industria
dei semiconduttori perché
consentirebbe ai big del setto-
re di gestire lamigrazione tec-
nologica verso il processo co-
struttivoa10nanometri dall’at-
tuale standard a 20 nanometri
a costi inferiori rispettoaquelli
derivanti dall’utilizzo delle at-
tuali macchine litografiche ba-
sate sulla tecnica a immersio-
ne. È tuttavia necessario che
la produttività delle macchine
EUV sia compatibile con alti
volumi di produzione e passi
nei prossimi dodici mesi dagli
attuali 4-5wafer per ora ad al-
meno70wafer.Nonèun caso
che
ha
dichiaratodi recente chegli in-
vestimenti finora stanziati per
la realizzazionedei processi di
fabbricazione a 10 nanometri
noncomprendono l’acquistodi
macchinari EUV, ma soltanto
attrezzature litografiche a im-
mersione. E proprio su que-
sto fronte potrebbero esserci
le prime difficoltà per ASML
Holding.Dallo scorsomese, la
società giapponese ha inizia-
to a raccogliere gli ordini per
un nuovo macchinario che è
stato appositamente progetta-
to per far fronte agli alti volu-
mi di produzione richiesti dai
processi di fabbricazione a 10
nanometri e che potrebbe ridi-
mensionare il quasimonopolio
di ASML Holding, dato che il
gruppo olandese detiene at-
tualmenteunaquotadimerca-
to superiore al 90% in questa
tipologiadi macchinari.
H
i
-
tech
&
finanza
Il quasimonopolio
di ASMLHolding
a rischio
Micron vede
i primi frutti
della ristrutturazione
Il gruppostatunitense
batte leattesediWall
Street.Nel Q22014 i
ricavi sono increscita
del 98% rispettoallo
stessoperiodo2013
E
lena
K
irienko
F
ederico
F
ilocca
La limitataproduttivitàdelle
nuovemacchineEUVpotrebbe
favorire ladiffusionedi
attrezzature litografichea
immersioneancheper i nuovi
processi costruttivi a10
nanometri. Suquesto fronte,
Nikonpotrebbe toglierequote
dimercatoal gruppoolandese
FotoASML
FotoMicron
