Lace innova la produzione dei chip

Atomico e altri investitori stanno guidando un round di finanziamento da 40 milioni di dollari per Lace Lithography, una startup norvegese focalizzata sulle tecnologie di produzione per i chip. Lace sta infatti sviluppando un sistema di litografia atomica BEUV (Beyond-EUV) per rendere possibile un sensibile miglioramento nei processi produttivi di questi componenti.

L’aspetto più interessante è che la nuova tecnologia di Lace non è una versione migliorata di quelle già utilizzate, ma una soluzione sostanzialmente diversa per rispondere ai problemi di sviluppo dei semiconduttori. Le attuali tecnologie per la fotolitografia necessaria alla realizzazione dei chip sono infatti molto vicin ai limiti dettati dalla fisica per questo tipo di processo.

La tecnologia di Lace utilizza un fascio di atomi di elio per modellare le strutture sul silicio, invece della luce usata nei processi tradizionali. Uno dei vantaggi più evidenti è legato al fatto che gli atomi non hanno limiti di diffrazione come la luce e questo permette alla litografia a fascio atomico di raggiungere risoluzioni anche 10 volte migliori rispetto ai sistemi sistemi attuali. Altri vantaggi sono costituiti dai costi più ridotti, una minore quantità di energia richiesta e una complessità inferiore. Il sistema inoltre, si può integrare nei flussi di lavoro a livello di foundry con modifiche minime all’infrastruttura.

Lace sottolinea che utilizzando atomi al posto della luce, diventa possibile estendere la legge di Moore di un decennio oltre le attuali tecnologie.

Gli esperti segnalano la particolare importanza di questa nuova tecnologia in uno scenario in cui le macchine per litografia attualmente più avanzate hanno costi di diverse centinaia di milioni di euro, consumi e complessità particolarmente elevate e in un momento in cui le richieste di componenti è diventata molto alta a causa della rapida crescita dell’AI.

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