GaN performance in NXP’s multi-chip modules for 5G infrastructure
NXP Semiconductors announced the integration of Gallium Nitride (GaN) technology to its multi-chip module platform. Building on the company’s investment in its GaN fab in Arizona, NXP is the first to announce RF solutions for 5G massive MIMO that combine the high efficiency of GaN with the compactness of multi-chip modules.
Reducing energy consumption is a major goal for telecom infrastructure, where every point of efficiency counts. The use of GaN in multi-chip modules increases lineup efficiency to 52% at 2.6 GHz—8 percentage points higher than the company’s previous module generation. And NXP has further improved performance with a proprietary combination of LDMOS and GaN in a single device, delivering 400 MHz of instantaneous bandwidth that makes it possible to design wideband radios with a single power amplifier.
This energy efficiency and wideband performance are now available in the small footprint of NXP’s 5G multi-chip modules. The new portfolio will enable RF developers to reduce the size and weight of radio units, helping mobile network operators lower the cost of deploying 5G on cellular towers and rooftops.
NXP’s new 5G multi-chip modules will sample in Q3, with production starting later this year.
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