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LIGHTING 7 - gennaio/febbraio 2015

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Lighting

shiba e le capacità produttive garantite dalle tecnologie

di Bridgelux per la crescita dei cristalli e la realizzazione

dei dispositivi LED. Dopo aver dimostrato con successo

di poter ottenere wafer di GaN su silicio per LED di ele-

vate prestazioni, Toshiba iniziò, nel 2012, la produzio-

ne in serie della propria famiglia LETERASTM di LED

bianchi basati proprio sul processo suddetto.

La prima generazione fu la serie TL1F1; introdotta a di-

cembre 2012 nel formato 6450 da 6,4 mm x 5,0 mm, essa

era caratterizzata da un’efficienza che arrivava a 110 lu-

men per Watt [lm/W] ed emetteva un flusso luminoso di

intensità compresa fra 85 e 112 lumen, con una tempe-

ratura di colore correlata (CCT: Correlated Colour Tem-

perature) che variava nell’intervallo da 5000 °K a 3000

°K. Con questo livello di prestazioni, la serie TL1F1 è

stata impiegata con successo in applicazioni quali lampa-

de, illuminazioni a soffitto, illuminazioni stradali e fari.

La nuova generazione

La seconda generazione è costituita dalla serie TL1F2

(Fig. 4), di cui è stata avviata la produzione in serie nel

novembre del 2013: essa presenta un’efficienza superio-

re rispetto al passato, in grado di raggiungere un valore

tipico di 135 lm/W. I miglioramenti alla base di tali pre-

stazioni sono stati raggiunti grazie alla combinazione di

due fattori: l’ottimizzazione del contenitore in cui il LED

viene incapsulato (packaging) e l’incremento della po-

tenza ottica in uscita dal chip LED. Il flusso luminoso che

viene tipicamente emesso dai LED da 1W della famiglia

TL1F2 appartiene all’intervallo compreso fra 104 e 135

lumen, a seconda della temperatura di colore e dell’in-

dice di resa cromatica (CRI: Colour Rendering Index).

La serie offre una gamma di temperatura di colore cor-

relata che parte da 2700 °K e arriva a 6500 °K, con valori

minimi dell’indice di resa cromatica rispettivamente di

80 e 70.

I LED della serie TL1F2 possono essere alimentati da

una corrente diretta tipica di 350 mA e sopportano ge-

neralmente una tensione diretta (VF) limitata, di

soli 2,85V, aiutando i questo modo i progettisti a

ridurre il consumo di potenza del sistema. I di-

spositivi vengono forniti in un contenitore stan-

dard nel formato 6450, che misura 6,4 mm x 5,0

mm per 1,35 mm di spessore e sono caratterizzati

da un ampio intervallo di temperatura operativa,

che si estende da -40 °C a 100 °C, consentendone

l’impiego in applicazioni sia da interno sia da

esterno.

La figura 4 elenca i dispositivi che sono già dispo-

nibili o che lo diventeranno con il rilascio della

tecnologia di seconda generazione.

Il futuro del GaN su Silicio

La commercializzazione dei LED in GaN su silicio

ha avuto successo e ha aperto così le porte ad ul-

teriori progressi per il futuro. I processi e le attrez-

zature per trattare wafer di dimensioni maggiori

di 200 mm sono già definite e validate, fornendo

quindi nuove opportunità per ulteriori riduzioni

di costi, mentre dispositivi aggiuntivi, quali circu-

iti integrati di controllo e di pilotaggio dei LED,

possono essere accorpati all’interno del medesi-

mo contenitore per migliorare le prestazioni e

l’affidabilità del sistema nel suo complesso.

Fig. 4 – La seconda generazione di LED bianchi GaN su

Silicio prodotti da Toshiba (tutte le condizioni di test sono

da intendersi alla corrente specificata e a 25 °C)

Fig. 3 – La prossima generazione di LED bianchi in

GaN su Silicio