Un consorzio per i processi litografici ad immersione

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Imec, il centro di ricerca di Leuven (Belgio) sui semiconduttori, ha raccolto e riunito in un consorzio 30 aziende che lavoreranno sui processi litografici ad immersione. La prima parte del progetto sarà concentrata su semiconduttori con lavorazioni da 193 nm.

Il lavoro si inquadrerà nell’ambito del programma che Imec sta svolgendo per sviluppare le tecnologie che porteranno i processi di produzione dei semiconduttori a dimensioni inferiori ai 45 nm. In merito al programma di ricerca, annunciato per la prima volta nel gennaio 2004, Imec ha comunicato i nomi delle aziende che si occuperanno della produzione materiale degli IC, della fornitura delle macchine di produzione, delle maschere e del software. Le aziende hanno destinato 80 ricercatori al programma e si attendono che le prime tecnologie ad immersione entrino in produzione, per processi da 65 nm, entro l’inizio del 2007.

Luc Van Den Hove, Vice President per la tecnologia dei dispositivi e dei processi a silicio, ha affermato che l’introduzione di queste tecnologie potrebbe essere anticipata, le prime applicazioni potrebbero essere nel 2006.

Le sette aziende, attive nella produzione di Chip, che dirigono con Imec il progetto di sviluppo sui 45 nm saranno automaticamente coinvolte nel nuovo programma per le tecnologie litografiche ad immersione, queste sono: Intel, Samsung, Texas Instruments, Philips, Infineon, StMicroelectronics and Matsushita. A queste si sono inoltre aggiunte Nec Electronics e Sony Corp. Per la manifattura dei Chip.

I fornitori delle macchine e degli utensili di produzione includeranno: Asml Holding NV, Carl Zeiss Smt AG, Cymer, Donaldson Extraction Systems, Kla-Tencor Corp., Lam Research Inc. e Tokyo Electron. I fornitori del materiale di resistenza e dei rivestimenti anti riflesso includeranno: Arch, AZ, Jsr, Shin-Etsu, Tok, Brewer Science e Nissan Chemicals. Tre produttori di maschere hanno sottoscritto il programma: Dai Nippon Screen, Toppan Printing e Photronics. Mentre la compagnie di software comprenderanno: Asml Masktools, Kla-Tencor Finle, Mentor Graphics, Sigma-C e Synopsys.

Luc Van Den Hove afferma inoltre che il budget annuale del progetto supera considerevolmente i dieci milioni di euro.

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