Mentor sposta il limite della verifica fisica DRC con il nuovo Calibre nmDRC – (Mentor redefines Design Rule checking for 0,65 era with Calibre nMdrc)

• 
• Tweet
• Pin It
• Condividi per email

Denominata Calibre nmDRC, sposta i limiti delle tradizionali tecniche di verifica fisica di controllo delle regole di progetto per i circuiti integrati adeguandole alle esigenze delle nuove tecnologie nanometriche e riduce significativamente i tempi necessari all’analisi circuitale, offrendo anche ai progettisti caratteristiche avanzate di analisi delle aree critiche, e visualizzazione dinamica dei risultati. Calibre nmDRC è il nucleo centrale della piattaforma Calibre nm Platform che comprende il tool di controllo delle regole di progetto (DRC), layout versus schematic (LVS), verifica dell’adeguatezza del progetto alle tecniche fotolitografiche (lithography-friendly design, LFD), e estrazione delle capacità parassite. Il nuovo software sostituisce la precedente versione di Calibre ma mantenendo inalterato l’ambiente e il linguaggio.

Calibre nmDRC offre anche un significativo incremento nella velocità di analisi grazie alla tecnologia chiamata da Mentor di Hyperscaling. Joe Sawicki, vice presidente e general manager della divisione design-to-silicon Mentor Graphics, ha detto “Abbiamo visto risultati stupefacenti utilizzando la tecnologia di Hyperscaling con Calibre NMDRC. Con progetti alle attuali geometrie a 90 e 130 nanometri, la verifica DRC è più veloce di circa cinque volte e con la tendenza a passare a layout di maggiore complessità e con geometrie inferiori, ridurre la durata dei tempi di verifica sarà sempre più importante”.

The tool redefines the traditional design rule checking (DRC) approach by reducing total cycle time and integrating new features such as critical area analysis and dynamic results visualization, all required to solve the yield challenges of the nanometer era. Calibre nmDRC is the underlying computational engine for the Calibre nm Platform, which includes design rule checking (DRC), layout vs. schematic (LVS), lithography-friendly design (LFD) and extraction. The Calibre nm Platform replaces previous Calibre offerings but uses the same rule decks and scripts.
Calibre nmDRC’s speed increase comes from what Mentor calls “hyperscaling” technology. Joe Sawicki, vice president and general manager of the design-to-silicon division at Mentor Graphics, stated, “We have seen outstanding results with the new Hyperscaling technology in Calibre nmDRC. With our current designs targeting at 90 nm and 130 nm, compared with the original version, we found the new Hyperscaling performs more efficiently by speeding up DRC run times up to 5x. With the trend for bigger and more complex designs, it is critical to reduce physical verification run time”.

• 
• Tweet
• Pin It
• Condividi per email