Maturità per la tecnologia High NA Euv di Asml

La tecnologia High NA Euv di Asml ha raggiunto la fase di maturità consentendo la realizzazione di chip in alti volumi. Il produttore di sistemi di litografia ha annunciato infatti che Intel Foundry sta utilizzando la sua tecnologia sul nodo di processo Intel 18A per produrre un sottoinsieme dei suoi processori Core Ultra Series 3, quelli noti anche con il nome in codice Panther Lake.

Asml precisa inoltre che l’utilizzo della litografia High NA Euv per modellare specifici strati di questi prodotti fornisce all’azienda e a Intel Foundry dati utili per perfezionare ulteriormente la configurazione del sistema, i tempi di attività e l’implementazione produttiva. Ciò apre la strada a una più ampia adozione, sfruttando appieno le potenzialità della tecnologia.

Christophe Fouquet, presidente e CEO di Asml, ha dichiarato: “Con una risoluzione maggiore e un migliore controllo del processo, l’introduzione di High NA Euv rappresenta un sostanziale sviluppo nella litografia dei semiconduttori. Siamo orgogliosi di contribuire a rendere possibile una modellazione più piccola e densa che accelererà i progressi nell’Intelligenza Artificiale e in altre tecnologie emergenti.”

Naga Chandrasekaran, vicepresidente esecutivo e direttore generale di Intel Foundry, ha aggiunto: “Questo traguardo riflette la stretta collaborazione tecnica tra Intel e Asml e dimostra come High NA Euv possa essere integrata nella produzione di semiconduttori su larga scala. Grazie alla qualificazione del processo High NA EUV su specifici layer di prodotto Intel 18A, la nostra flotta di strumenti esistente offre ai clienti una maggiore produttività, mentre sviluppiamo opzioni future per raggiungere prestazioni, densità e flessibilità produttiva all’avanguardia sui prossimi nodi.”

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