IBM Research: soluzioni per la produzione di chip

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La scoperta di Ibm potrebbe ritardare la conversione, ad alto rischio per il settore dei semiconduttori, a un’alternativa estremamente costosa.

I ricercatori IBM hanno creato gli schemi di circuiti di alta qualità più piccoli mai realizzati finora utilizzando la litografia ottica con ultravioletti profondi (DUV 193 nanometri), tecnologia utilizzata attualmente per lo più per “stampare” i circuiti sui chip. Le tracce, ben definite e spaziate in modo uniforme, sono larghe appena 29,9 nanometri (un nanometro equivale a un miliardesimo di metro), ovvero meno di un terzo rispetto alle dimensioni delle attuali tecnologie in produzione di massa di 90 nanometri e meno dei 32 nanometri che il settore considerava il limite per le tecniche di litografia ottica.

“Il nostro obiettivo è spingere la litografia ottica il più lontano possibile, in modo da non dover ricorrere ad alternative costose finché non sarà assolutamente necessario”, ha dichiarato Robert D. Allen, responsabile dei materiali litografici presso il Centro di Ricerca Almaden di IBM. “Questo risultato dimostra chiaramente, come mai era stato fatto finora, che il settore avrà margine di manovra per almeno altri sette anni prima che si rendano necessari cambiamenti drastici nelle tecniche di produzione dei chip”.

Lo schema di dimensioni record di linee e spazi ben definiti e con spaziatura uniforme di 29,9 nm è stato creato con un apparato sperimentale per litografia ideato e realizzato dal centro di Ricerca IBM di Almaden, utilizzando nuovi materiali sviluppati dal partner JSR Micro (Sunnyvale, California).

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