TI: un nuovo DMD per la litografia

Texas Instruments (TI) ha introdotto DLP991UUV, un DMD (Digital Micromirror Device) utilizzabile per la litografia digitale maskless.

Questa soluzione per l’imaging ha 8,9 milioni di pixel (il mirror pitch è di 5,4 μm), una velocità di elaborazione fino a 110 gigapixel al secondo, livelli di potenza di 22,5 W/cm² a 405 nm e la possibilità di funzionare a lunghezze d’onda di 343  nm.

TI sottolinea che, eliminando la necessità dell’infrastruttura della maschera e le spese correlate, la tecnologia DLP contribuisce sensibilmente a ridurre i costi di produzione, offrendo al tempo stesso la flessibilità necessaria per apportare modifiche al progetto in tempo reale senza la necessità di agire fisicamente sulla maschera. La tecnologia permette di ottenere una precisione particolarmente elevata su substrati di ogni dimensione, il che si traduce direttamente in una maggiore produttività, maggiore resa e un numero inferiore di difetti. Si tratta di vantaggi sensibili, in quanto i produttori di package sono alla ricerca di soluzioni per rispondere alla sempre crescente domanda di componenti ad alta larghezza di banda e basso consumo energetico.

Jeff Marsh, Vice Presidente e Direttore Generale per la Tecnologia DLP di TI, ha dichiarato. “Ciò che stiamo realizzando è la creazione di sistemi di litografia digitale senza maschera che permettono agli ingegneri di tutto il mondo di abbattere le attuali barriere nel campo del packaging avanzato e portare quindi potenti soluzioni di elaborazione sul mercato”.

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