Fujitsu adotta piattaforma Calibre e flusso Dfm per progetti IC avanzati
Mentor Graphics ha rivelato che Fujitsu Microelectronics ha qualificato e adottato la piattaforma Calibre e il flusso Dfm di Mentor stessa per la progettazione di prodotti IC avanzati.
Il flusso basato su prodotti Mentor utilizzato da Fujitsu Microelectronics comprende la piattaforma per la verifica fisica Calibre, dotata degli strumenti Calibre nmDrc, Lvs e xRC, e la completa soluzione Dfm di Mentor stessa che indirizza le questioni di variabilità presenti nel processo di fabbricazione, vale a dire una suite di strumenti integrati per eseguire analisi di aree critiche, progettazioni lito-amichevoli e rivolgersi agli aspetti legati alla variabilità 3D: la relativa soluzione rende disponibili a questo proposito migliori modelli di planarità consentendo riempimenti altamente ottimizzati effettuati secondo regole basate su modelli geometrici complessi o su simulazioni di spessori completi.
La piattaforma Calibre nm, con gli strumenti Calibre nmDrc e Lvs, è assurta a norma aurea per verificare IC avanzati. In questo senso, la completa soluzione Dfm di Mentor è strettamente integrata con la suddetta piattaforma e supporta i progetti aventi le massime prestazioni presso nodi avanzati con un migliore controllo delle condizioni di variabilità presenti nel processo di fabbricazione di librerie di celle come anche nel layout di chip completi. La soluzione Calibre Dfm, per parte sua, comprende il prodotto Calibre Lfd, che fornisce modellazioni accurate del processo litografico e delle caratteristiche di incisione e che è totalmente integrato con i prodotti Calibre nmDrc, Lvs e xRC, consentendo di estrapolare caratteristiche di interconnessione e dispositivi critici in base a geometrie di contorni di tipo “come costruito”, modellate accuratamente. I dati fisici risultanti possono quindi essere collegati a un simulatore Spice per generare una precisa simulazione dei tempi del modo in cui i blocchi fisici funzioneranno poi effettivamente.
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