Mentor Graphics ha svelato che l’offerta Hkmg a 32 nm a bassa potenza di Samsung Foundry prevede l’uso delle soluzioni Calibre di Mentor Gaphics stessa come componenti fondamentali da impiegare tanto per progettare quanto per realizzare prodotti. In questo senso i prodotti Calibre Opc e Calibre Mask Data Prep di Mentor sono utilizzati nel flusso di fabbricazione, mentre i prodotti Calibre Physical Verification e Dfm fanno parte del flusso di progettazione supportato da Samsung Foundry.
Samsung Foundry e Mentor forniscono al riguardo un completo set di possibilità per realizzare progetti Hkmg a 32 nm basati sulla piattaforma Calibre, che è l’ambiente principale per la validazione delle tecnologie Common Platform. A questo proposito la soluzione Mentor per l’implementazione dei progetti Hkmg a 32 nm di Samsung Foundry comprende i prodotti Calibre nmDrc e nmLvs per la verifica fisica, Calibre Lfd per il controllo della variabilità litografica e Calibre YieldAnalyzer e YieldEnhancer per la progettazione al fine della fabbricazione, dove il prodotto Calibre Opc e strumenti di preparazione dei dati delle maschere sono impiegati nel flusso di preparazione dei dati delle maschere stesse, consentendone possibilità di simulazione e correzione litografiche accurate e di completarle in tempi rapidi.
La soluzione congiunta Samsung Foundry-Calibre è più di un flusso di riferimento foundry standard, essendo infatti la stessa utilizzata dai progettisti Lsi di Samsung System anche per creare alcuni dei più avanzati prodotti ad alti volumi presenti nell’industria. A questo riguardo il flusso complessivo e i kit di progettazione Samsung sono validati e aggiornati costantemente internamente a Samsung medesima affinché i reciproci clienti possano contare su un flusso di progettazione siliceo comprovato. Inoltre, impiegando la completa piattaforma Calibre Dfm e i robusti kit di progettazione facenti parte dell’offerta a 32 nm Samsung, i reciproci clienti possono sintonizzare i loro progetti allo scopo di disporre, presso Samsung, di rampe di progettazione più regolari.
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